山形大学大学院理工学研究科廣瀬研究室では、表面界面制御テクノロジーと室温原子層堆積法をベースに従来にはない発想でデバイス・太陽電池の革新をめざします。当研究室で取り組んでいるテーマは次の通りです。

　1.　室温原子層堆積の開発と応用研究
　2.　吸着制御による複合酸化膜原子層堆積法の研究
　3.　ナノ微粒子機能表面処理とデバイス応用
　4．ナノスケールチャネル薄膜トランジスタの研究
　5．界面制御による高効率色素増感太陽電池の高効率化研究　

　

トピックス

• 2025年度配属三年生向けに卒研テーマ案を公表しました。
• 当研究室から学振DCに採択者が2名でました。
• D2の吉田一樹さんが、国際会議ALD2019（シアトル）で優秀ポスター発表賞を受賞されました。
• 大学発新産業創出プログラムの成果を受けて、大学発ベンチャーである㈱Cool ALDを設立しました
• 「室温原子層堆積法による金属酸化物ナノコーティング技術の事業化」研究では大学発新産業創出プログラムに採択になりました。
• 2017年新機能性材料展に出展いたしました。
• 2018年新機能性材料展に出展しました。
• 日本経済新聞で研究成果が取り上げられました。